铜(Cu)因其出色的电导率和热导率以及较低的成本,已成为银(Ag)在导电浆料领域的理想替代品。这些优点使其适用于多种电子应用,如印刷电路板[1]、光伏电池[2]、柔性可穿戴电子设备[3],[4],[5]以及射频识别(RFID)标签[6]。然而,铜基导电浆料的广泛应用面临一个关键挑战:铜在高温度烧结过程中容易氧化。氧化产物的形成(主要是CuO和Cu2O,熔点分别为约1446°C和约1232°C)会显著降低电导率并阻碍烧结过程。为了开发出具有优异抗氧化性和长期稳定性的低成本复合材料,需要对铜粉进行有效的表面抗氧化处理。
目前制备低成本、高导电性铜浆料的主要策略有两种。第一种方法是通过核壳结构或有机钝化来提高铜的固有抗氧化性。核壳保护层采用抗氧化金属(如Ag、Ni)或通过置换镀层或化学还原法沉积的石墨烯[7],[8],[9],[10],[11],[12],[13],[14],[15],[16],[17],但这类方法常常存在涂层不均匀性和热应力下的界面分层问题。有机钝化剂(如CTAB、咪唑衍生物)能形成非导电保护层[18],[19],[20],[21],[22],[23],[24],[25](例如Ke[17]的研究表明,CTAB涂层的铜在325°C烧结后仍保持21.4 μΩ·cm的电阻率;Zhang[20]通过咪唑与铜的配合物作用提高了抗氧化性)。然而,这些有机层需要超过250°C的温度才能完全去除,且残留的绝缘层会阻碍原子扩散和电荷转移,从而降低导电性。第二种策略是通过优化配方和工艺来减少制造和使用过程中的氧化。羧酸官能化的浆料在烧结过程中利用原位还原反应[26],[27],[28],[29](例如Han[25]在真空条件下180°C通过铜羧酸还原实现了2.8 μΩ·cm的电阻率)。这类系统需要特定的气氛(N2、形成气体或真空),增加了工艺复杂性。先进烧结技术(如光子烧结、激光烧结)可以加快加工速度[30],[31],[32],[33],但能耗较高,且气体副产物可能导致孔隙率增加,从而影响导电性。
受这些研究的启发,我们设计了一种新的双涂层方法。鉴于末端羧基团能与新生铜纳米粒子表面结合以防止氧化,我们选择了强还原性的甲酸根阴离子作为主要配体,并引入苯并三唑(BTA)来钝化残留的缺陷和氧化位点,利用其形成热稳定的[Cu(I)-BTA]n复合膜的能力。铜粉通过两步还原法制备,相比一步法具有更好的均匀性和分散性[34]。通过正交实验设计确定了最佳反应条件。这种协同作用机制结合了两种保护方式:甲酸根离子形成的钝化层具有优异的耐酸碱性和热稳定性,而BTA则能钝化活性位点、堵塞缺陷并实现对抗氧化物质的自我修复功能。这种协同作用对于实现低温(<200°C)空气烧结而不影响导电性和长期环境稳定性至关重要。