基于量子点(QD)的发光二极管(QLED)由于其卓越的性能而受到了广泛关注,包括高亮度(L)、接近理论最大值的外部量子效率(EQE)和出色的稳定性。[1], [2], [3], [4], [5] 在传统的溶液处理QLED中,聚(3,4-乙烯二氧噻吩):聚(苯乙烯磺酸盐)(PEDOT:PSS)因其优异的导电性和与氧化铟锡(ITO)电极的有利功函数(WF)对齐而被广泛用作高效空穴注入材料。[6], [7], [8] 然而,PEDOT:PSS的吸湿性和酸性对器件稳定性构成了重大挑战,因为它们会导致ITO电极的腐蚀和有机聚合物层的降解。[9], [10] 此外,PEDOT:PSS容易聚集,这不仅复杂化了长期存储,也影响了溶液过程中形成平滑均匀的空穴注入层(HIL)的过程。[11] 已有大量研究致力于开发可以替代PEDOT:PSS的空穴注入材料。有前景的候选材料包括无机金属氧化物(如MoOx和NiOx)和基于小分子的自组装单层(SAM)。[12], [13], [14] 相比之下,SAM具有多种优势,包括多样的化学结构、在有机溶剂中的优异溶解性以及形成平滑均匀薄膜的能力,使其成为ITO表面修饰和作为发光器件中HIL的理想选择。[15], [16], [17], [18]
近年来,一类包含咔唑(CZ)和膦酸(PA)基团的小分子被广泛用作SAM,使得无需PEDOT:PSS即可制备高效QLED。Gao等人使用(3-(3,6-二溴-9H-咔唑-9-基)丙基)膦酸(2BrCzPA)在ITO表面上形成了SAM。由此制备的红色、绿色和蓝色(RGB)QLED的峰值EQE分别为15.28%、12.63%和14.83%,亮度值分别约为3.4×104、2.3×104和9.1×103cd/m?2。[11] 随后,另一种基于CZ-PA的SAM使用4-(10-溴-7H-苯并[c]咔唑-7-基)丁基)膦酸(BCB-Br)被开发出来。这种改进使得RGB QLED的EQE分别达到了23.3%、17.3%和8.7%。这些发现表明,基于CZ-PA的SAM是一类适用于QLED的高效空穴注入材料。[19] 尽管这些小分子具有商业可用性,但它们的结构不变性限制了其化学多样性,从而限制了它们在电子设备中的功能。
在这里,我们提出了一种基于对称性和双齿配体的战略分子设计,从而得到了一种用于高性能SAM基QLED的新有机小分子。为了形成稳定的SAM,设计了3,3'-((4-(二苯氨基)苯)偶氮二基)二苯甲酸(DA)分子,其中包含两个对位-三苯胺(para-TPA)和间位-羧基(meta-COOH, CA)基团。[20] 这种线性设计有助于在ITO上的牢固锚定,并产生强烈的界面偶极矩。X射线光电子能谱(XPS)分析证实了化学锚定,而紫外光电子能谱(UPS)揭示了真空能级位移,直接证明了界面偶极层的形成。测量的SAM厚度(约2.26纳米)与理论分子长度(约1.6纳米)相匹配,证实了单层的形成。所得到的ITO/DA薄膜光滑、坚固,并在后续的溶液处理过程中保持完整。同时,DA的HOMO能级通过这两个吸电子的COOH基团得到了稳定,这与常见的空穴传输材料相匹配。TPA基团直接负责DA SAM中观察到的出色空穴传输能力。这一特性,加上它们坚固光滑的薄膜形态以及高效的空穴注入能力,使得它们具备了高性能器件所需的关键特性组合。使用ITO/DA SAM制备的QLED表现出优异的性能,实现了1.9V的低开启电压(Von)、12V时的亮度(L)为6.67×104cd/m?2、18.80%的EQE,以及138小时的T95寿命(定义为亮度降至初始值的95%所需的时间)。基于SAM的器件的效率和操作稳定性均超过了使用PEDOT:PSS、benzo[f]吡razino[2,3-h]喹啉-2,3,6,7,10,11-六碳腈(HATCN)或无HIL的参考器件。DA SAM的全面优势,包括易于制备均匀薄膜、优异的光学性能、理想的能级对齐和出色的空穴注入能力,使其成为高性能和稳定QLED的可靠替代品。