在环境UVB照射下，5-氨基-2-甲基酚通过氧化应激介导的DNA片段化参与人类角质形成细胞中依赖STING的凋亡过程

本研究探讨5-氨基-2-甲基苯酚（5AMP）在UVB下的光毒性机制，发现其通过I型光动力产生自由基，引发氧化应激、线粒体损伤和DNA损伤，最终导致细胞凋亡。cGAS-STING通路和NAC/SOD预处理的作用为安全评估提供依据。

　　

摘要

永久性染发剂是广泛使用的化妆品，但由于它们可能造成DNA损伤、炎症和过敏反应，因此存在健康风险。5-氨基-2-甲基酚（5AMP）是一种常用的偶联剂，已知会引发皮肤敏感反应。该物质能够吸收UVB光，但其光化学性质尚未得到充分研究，在相关光毒性评估报告中也未进行评估。初步数据显示，5AMP在UVB照射下会发生光降解，生成新的光产物，这一结果通过LC–MS/MS技术得到了证实。然而，当皮肤同时接触5AMP并暴露在UV光下时，它是否具有光毒性仍不清楚。因此，我们研究了5AMP的光毒性及其潜在机制。在本研究中，我们在环境相关的UVB剂量（0.018–2.16 J/cm2）下，检测了5AMP在两种浓度（5 μg/ml和10 μg/ml）下对人类角质形成细胞的光毒性。光敏化的5AMP通过I型光动力机制产生超氧阴离子自由基，导致细胞内和线粒体内的活性氧（ROS）水平升高。光敏化5AMP引发的氧化应激破坏了线粒体膜电位并导致DNA损伤，最终引发细胞凋亡。预先使用NAC/SOD处理可以减轻5AMP诱导的细胞凋亡。进一步的研究表明，cGAS和STING基因的表达上调会触发IFNβ的产生。使用H151（一种STING抑制剂）处理后，IFNβ的表达和细胞死亡显著减少，这证实了STING在光毒性机制中的关键作用。综上所述，氧化应激及其引发的cGAS和STING激活在5AMP诱导的细胞凋亡中起关键作用。这些研究结果揭示了在环境UVB/阳光照射下对光不稳定染发剂成分进行安全性评估时存在的重大缺陷，强调了寻找更安全替代品的必要性。