伽马射线辐照对光电导半导体开关瞬态特性的影响机制
《IEEE Transactions on Neural Systems and Rehabilitation Engineering》:Mechanism of Gamma-Ray Irradiation Effects on the Transient Characteristics of Photoconductive Semiconductor Switches
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时间:2026年03月17日
来源:IEEE Transactions on Neural Systems and Rehabilitation Engineering 5.2
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γ射线辐照导致钒补偿4H-SiC光电半导体开关(PCSS)瞬态特性三阶段演变:初始劣化[0-200krad]、场辅助恢复[200-300krad]和严重退化[>500krad],深能级陷阱(Z1/Z2)主导复合机制,SDDA结构较DDSA耐辐照(800krad时导通电阻增6% vs 25.5%),衬底补偿效应提升器件可靠性。
摘要:
本研究探讨了伽马射线辐照对钒补偿半绝缘(VCSI)4H-SiC光电导半导体开关(PCSS)瞬态特性的影响。在受控辐照实验(0–800 krad(Si)和5-kV偏压条件下)中,发现导通电阻(R_on)、负载功率以及半高宽(FWHM)会随辐照剂量增加而降低,这一过程分为三个阶段:初始恶化阶段(0–200 krad(Si))、通过场辅助缺陷修复实现瞬态恢复阶段(200–300 krad(Si)),以及严重退化阶段(>500 krad(Si))。光致发光(PL)光谱分析表明,能量分别为Z1/2 = -0.67 eV和E_H = -1.55 eV的深能级缺陷是主要的复合中心。模拟结果表明,在532纳米激光激发下,深能级缺陷通过Shockley–Read–Hall复合机制缩短载流子寿命,从而恶化了开关的瞬态导通特性。值得注意的是,浅施主-深受体(SDDA)结构的PCSS具有更好的辐射耐受性,在800 krad(Si)辐照下其导通电阻仅增加了6%,而深施主-浅受体(DDSA)结构的PCSS导通电阻增加了25.5%,这种差异归因于衬底的补偿类型。这些发现揭示了4H-SiC PCSS中的辐射损伤机制,并为航空航天应用中需要抗辐射的脉冲功率系统提供了设计指导。
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