高发光性的Eu3?: Lu?Al?O??薄膜：基底与退火处理的关键影响

《Thin Solid Films》：Highly Luminescent Eu3?: Lu?Al?O?? Thin Films: The Critical Impact of Substrate and Annealing

　　

Bilal Sayah|Lakhdar Guerbous|Ahmed Rafik Touil|Lyes Benharrat|Omar Benamara|Allaoua Boukerika|Nasreddine Ha?ne

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  通过溶胶-凝胶浸涂法在多种基底上制备了Lu?Al?O??: Eu3?薄膜。
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  基底类型和退火温度对薄膜的结构和发光性能有显著影响。
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  在300–725纳米范围内观察到了Eu3?的4f?→4f?跃迁发射带。
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  量子效率超过100%，这得益于高效的光子回收机制。