根管再治疗中微创与传统根尖敞开(minimally invasive versus conventional apical enlargement)去除重度弯曲近中根管充填物的比较：一项显微计算机断层扫描(micro–computed tomography, micro?CT)研究

《Clinical Oral Investigations》：Minimally invasive versus conventional apical enlargement during retreatment of severely curved mesial canals: A micro–CT study

　　

摘要：本研究采用显微计算机断层扫描(micro–computed tomography, micro?CT)比较下颌磨牙弯曲近中根再治疗时，微创再治疗法（再预备至30/0.04）与传统再治疗方案（再预备至40/0.04）在不同阶段去除根管充填材料的效果。选取14颗拔除的下颌第一磨牙，具备Vertucci IV型双根管及重度弯曲(25°–40°)，经初预备(25/0.04)后严密充填。采用同根内配对设计，分别行微创再治疗（D?Race＋iRace至30/0.04）及传统方案（Mtwo再治疗锉＋Mtwo至40/0.04），不使用溶剂；于三个阶段行micro?CT扫描，定量残留充填物体积，α＝0.05检验。两组初始充填体积无差异(P＞.05)。去阻塞后，微创组残留更少(P＜.01)，分别为0.2 mm3(去除率≈95%)与1.1 mm3(去除率≈70%)；再预备后两组均无统计学差异(P＞.05)，去除率分别为98%与95%。结论：微创方案在初期去充填物更高效，最终再预备后两组均残留＜5%充填物，保守扩至30/0.04与40/0.04清除效果相当且更利于保存根部牙本质。临床相关性：重度弯曲根管再治疗中广泛根尖敞开(40/0.04)并非必要，保守30/0.04可达相似清洁度并更好保存根部牙本质与结构完整性。

论文解读——微创与传统根尖敞开在重度弯曲下颌磨牙近中根管再治疗中去除充填材料的micro?CT研究

《Clinical Oral Investigations》刊载的此项研究，针对根管再治疗(retreatment)中"是否需要较大根尖敞开(apical enlargement)以确保充填物彻底清除"这一尚未明确的问题展开。非手术根管再治疗需彻底去除原有牙胶(gutta?percha, GP)及封闭剂(sealer)，残留物可庇护微生物致再治疗失败；但过度根尖敞开会削薄根部牙本质，尤其下颌磨牙近中根具Vertucci IV型、重度弯曲及危险区(danger zone)壁薄特点，增加根折风险。既往大多比较再治疗器械本身，少有以不同根尖敞开理念(微创vs.传统)为变量、分阶段评估且在复杂弯曲解剖下行高分辨率micro?CT三维定量者。研究人员因此采用配对同根内设计，在严重弯曲下颌第一磨牙近中根比较微创再预备至30/0.04与传统再预备至40/0.04对充填物清除的影响。

主要关键技术方法

研究人员自人牙库获取143颗拔除下颌第一磨牙，筛选14颗具Vertucci IV型双独立根尖孔、弯曲度25°–40°(Schneider法)、无钙化/吸收/裂纹者。初预备统一以HyFlex EDM 25/0.04至工作长度(WL＝根尖孔距－1 mm)，单尖法(同锥度GP＋Sealer 26)充填，37℃湿度保存30天使封闭剂固化。同根两近中根管随机交替分配：微创组—D?Race(DR1 30/0.10、DR2 25/0.04)去阻塞后iRace序列(15/0.06→25/0.04→30/0.04)；传统组—Mtwo Retreatment(15/0.05→25/0.05)去阻塞后Mtwo序列(25/0.06→30/0.05→35/0.04→40/0.04)，全程无溶剂，每步2.5%次氯酸钠(NaOCl)冲洗60 s，终以17%乙二胺四乙酸(EDTA)除玷污层。micro?CT(SkyScan 1174 v2, 50 kV, 800 μA, 各向同性分辨率17 μm)扫描三阶段：①初充后；②去阻塞后；③再预备后。CTAn软件二值化定量残留充填体积，Wilcoxon符号秩检验比较(n＝13，因1例Mtwo再治疗锉折断排除)，α＝0.05。

研究结果

样本与初始条件

初扫描确认两组初始充填体积无差异(P＞.05)，配对设计有效控制解剖变异。

去阻塞(desobstruction)后残留充填物

微创组(D?Race)平均残留0.2 mm3(约95%去除)，传统组(Mtwo Retreatment)平均残留1.1 mm3(约70%去除)，差异有统计学意义(P＜.01)。提示D?Race较高转速产热促使GP热塑性化并冠向排出，初期去充填效率优于Mtwo Retreatment。

再预备(reinstrumentation)后残留充填物

微创组(终至30/0.04)残留均值0.1 mm3(去除率98%)，传统组(终至40/0.04)残留0.2 mm3(去除率95%)，两组间无统计学差异(P＞.05)。表明再预备阶段的机械切削与冲洗可弥补初期差异，较小根尖敞开(30/0.04)与较大(40/0.04)最终清除效果相当。

讨论总结

研究证实再预备阶段具"均衡效应(equalizer)"，最终＞95% GP被移除，不支持"更大根尖敞开必获更佳充填物清除"的传统观念。微创方案初效更优且终效相当，保守扩至30/0.04有望更多保留根部牙本质、降低根折风险，特别适用于下颌磨牙薄壁弯曲近中根；唯抗菌效能尚待进一步验证。未观察到器械分离或明显根尖偏移/根管偏移(canal transportation)。

结论(翻译)

微创方案在根管充填物初期去除中显示更高效率；但最终再预备后，两种方法均获得相似结果，残留充填材料＜5%。这些发现提示，在重度弯曲根管中，保守性根尖敞开至30/0.04与更大号预备(40/0.04)去除充填材料效果相当，且可能更好地保存根部牙本质。